整機結構 | 前端設備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元，前端EFEM系統與等離子體處理單元分體式設計 |
等離子體源 | 射頻式電感耦合等離子體源或雙頻等離子體源 |
反應腔室 | 標準設計為雙反應腔室，可根據需求定制單反應腔室和多反應腔室結構 |
機械傳片 | 單臂或雙臂高精度機械手 |
Wafer升降 | 機械式Wafer pin升降結構，Wafer pin采用特定工藝處理 |
真空泵 | 干式真空泵，根據安裝位置及工藝不同，選擇100-600m3/h規格。如工藝需求，可增加分子泵。 |
工藝壓力控制 | 自動調壓蝶閥 |
真空檢測 | 管道真空計、反應腔室全量程真空計、工藝真空計 |
工藝氣體種類 | 標準配置Ar、N2、O2，可增加CF4及其他工藝氣體 |
氣體流量控制 | 質量流量控制器（MFC） |
反應腔室溫度范圍 | 50 - 280℃ |
控制系統 | 基于工業電腦設計開發的人機交互系統，系統設計人性化、操作簡單 |
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42
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其他
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24小時內
深圳市奧坤鑫科技有限公司于2009年成立，是專注于等離子體表面處理設備的高科技技術企業。2010年成立昆山公司，立足華東，成立OKsun在長三角的銷售和代加工中心。2010年10月和其他科研機構合作在蘇州成立等離子體科技與應用研發中心，與江蘇多所大學合作，就等離子體科技做深入科研及工業應用研究，成為擁有獨立自主等離子體研發能力的優秀企業。OKsun品牌目前已經擁有中頻、射頻等多款等離子處理機型，性能優良，性價比；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉鼓等真空等離子處理設備；另外還具有常壓（大氣）噴射式、大氣準輝光式、隧道式、水平線等多種常壓等離子處理設備。OKsun品牌等離子體表面處理設備廣泛應用于PCB制造、電子電路、電子電器、汽車制造、半導體制造、包裝、印刷、涂覆、高分子材料、塑膠五金、醫療器械、滅菌等行業，目前已經成為真空等離子體處理設備優秀生產企業，產品面涉及極為廣泛。我們倡導技術創新，以滿足客戶的個性化需求為已任，為客戶提供與等離子處理系統相關的技術支持服務，致力于成為的者！
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